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薄膜生长速率测试仪

发布者::admin  发布时间: :2011-09-20 14:24  浏览次数: :
产品介绍:
详细说明:

精密薄膜沉积生长速率监控系统,采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量(n&k),可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。

主要特点:

*实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数(n&k)分析,同时标准偏差统计分析;

*自动程序化校准;

*精密的实时反馈系统;

*程序控制,可实时多层薄膜沉积监控和控制;

*多Wafer监控功能;

*Wafer基底旋转监控和控制功能;

*所有参量原位实时检测;

*操作装配简单便捷;


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