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薄膜性能测量设备
  • <b>kSA SpectR 光谱反射率测量设备</b>
    kSA SpectR 光谱反射率测量设备

    kSA SpectR 光谱反射率测量设备 是一种用于测量光谱绝对反射率,L*a*b*成色值和生长速率的非接触式测量设备。该工具具有多种在线监控和过程控制的应用功能,包括垂直腔表面发射激光…

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  • <b>锂离子电池电极应力测量系统</b>
    锂离子电池电极应力测量系统

    采用多光束光学传感器系统(kSA MOS)原位实时应力测量分析,可研究锂离子电池反应动力学过程中或在正常使用过程中内部会产生应力,对其电化学性能的影响;即就是在充放电过程中锂离子电池…

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  • <b>薄膜应力测量系统</b>
    薄膜应力测量系统

    薄膜应力测量系统(kSA MOS US),采用多光束MOS传感器技术!样品表面全面积2D曲率、应力、翘曲等Mapping图像分析,同时具有线性扫描以获得样品的曲率、曲率半径、应力强度、应力、Bow和翘曲…

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  • <b>薄膜热应力测量系统</b>
    薄膜热应力测量系统

    薄膜热应力测量系统(kSA MOS Thermal-Scan),采用多光束MOS传感器技术!结合真空和低压气体保护温腔体,度范围RT~1000°C;可测量样品曲率、曲率半径、应力强度、应力、Bow和翘曲等…

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  • <b>原位薄膜应力仪</b>
    原位薄膜应力仪

    原位薄膜应力测量系统(kSA MOS Film Stress Measurement System):系统采用非接触MOS激光阵列技术;不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行实时原位测量,而且还可二维应力Mapping 成像统计分析,同…

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  • <b>kSA 400 RHEED分析系统</b>
    kSA 400 RHEED分析系统

    RHEED分析系统(kSA 400 Analytical RHEED System),适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统(如:脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等)!目前第四代系统为客户提…

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  • <b>反射高能电子衍射仪 RHEED</b>
    反射高能电子衍射仪 RHEED

    仪器简介: Reflection High-Energy Electron Diffraction (RHEED) has become widely known as an essential method for real-time observation of crystal growth. RHEED can be used to analyze film surfaces in either a static mode for existing…

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  • <b>薄膜生长速率测试仪</b>
    薄膜生长速率测试仪

    精密薄膜沉积生长速率监控系统,采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量(nk),可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统…

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  • <b>kSA BandiT 衬底温度测试仪</b>
    kSA BandiT 衬底温度测试仪

    kSA BandiT 是一种非接触、实时测量半导体衬底表面真实温度的测试系统,采用半导体材料吸收边随温度的变化,实时测量晶片/衬底的温度;并且kSA BandiT 已经成功地安装到众多的MBE, MOCVD, Sputte…

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