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产品介绍:

脉冲激光沉积系统

发布者::admin  发布时间: :2011-09-21 16:23  浏览次数: :
产品介绍:
详细说明:

专业的PLD脉冲激光沉积系统(基片尺寸Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape)供应商,凭借多年的娴熟的经验、雄厚的研发实力和生产能力,为不同客户提供专业脉冲沉积系统方案和优质的技术服务;并且已经被众多著名高校、研究所和R&D企业所采用。

同时也为客户提供同类设备:

大面积电子束沉积系统:沉积区域70mmx200mm,适合金属、绝缘材料和介电材料等沉积;

大面积溅射系统:沉积区域Max 75mm(W) x 310mm(L),适合金属、半导体、绝缘材料和介电材料等沉积;

小型化溅射台:φ1inch~φ2inch基片,价格优惠,特别适合高校研究使用;

技术参数:
基片尺寸:Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape material applied;

靶尺寸:Size Φ1”inch to Φ8inch;

靶数量:up to 6pcs;

基片加热: up to 900℃;

真空度:5x10-5 Pa,(On request,6x10-6 Pa or less) ;

主要特点:
靶Swing功能;

激光束扫描功能;

配备准分子激光器;

可选功能:Load Lock Chamber
                    RHEED分析功能
                    多功能系统:Comibination with Sputter gun,Electron beam、IBAD


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