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石墨烯制备系统(CVD)

发布者::admin  发布时间: :2013-04-24 16:45  浏览次数: :
产品介绍:
详细说明:

MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料,有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入,在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。
快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔上 (如铜或镍箔);系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑动30mm到反应炉,加热的炉可以远离样品,从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果。

主要特点:

1)快速加热和制冷功能;
2)管式炉滑动装置,可使得样品快速加热和冷却;
3)特殊设计的测温传感器,可直接监测样品温度;
4)支持生长其他各种碳纳米材料(碳纳米管、碳纳米线等); 

技术指标:

1)石英管尺寸:OD50×ID46×L1200mm
2)加热区尺寸:φ50×L260mm
3)最大操作温度:1200 ℃
4)正常使用温度范围:400-1100 ℃
5)程序化PID温度控制
6)三路气体源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)
7)旋转真空泵,抽速20L/min
8)热电偶实时监测样品温度
9)快速加热和制冷系统
10)手动管式炉滑动系统,滑动距离300mm
11)设备尺寸:W1400×H1000×D500mm

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