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产品介绍:

激光直写系统

发布者::admin  发布时间: :2011-09-20 15:17  浏览次数: :
产品介绍:
详细说明:

欧洲先进的无掩膜激光直写系统,最小线宽可达 100nm,为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相关微纳米结构领域的科研工作者,提供强有力的手段!

技术参数:
加工线宽:最小可达 100nm;

主要特点:
多种曝光模式:
        2D曝光模式:构建二维纳米结构;
        3D曝光模式:可加工三维纳米结构;

压电驱动平台配合精密自动驱动平台,具有更高的水平定位分辨率;

系统自动聚焦、纠斜、对准;

多功能试样夹具;
快速样品样品更换:<1秒;

专业图形设计软件:支持导入CAD设计软件,2D和3D随意简单设计;


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