MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料，有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入，在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。

快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔上 (如铜或镍箔)；系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑动30mm到反应炉，加热的炉可以远离样品，从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果。

主要特点
    • 快速加热和制冷功能；
    • 管式炉滑动装置，可使得样品快速加热和冷却；
    • 特殊设计的测温传感器，可直接监测样品温度；
    • 支持生长其他各种碳纳米材料（碳纳米管、碳纳米线等）；

技术指标

    • 石英管尺寸：OD50×ID46×L1200mm

    • 加热区尺寸：φ50×L260mm

    • 操作温度：可达1200 ℃

    • 正常使用温度范围：400-1100 ℃

    • 程序化PID温度控制

    • 三路气体源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)

    • 旋转真空泵，抽速20L/min

    • 热电偶实时监测样品温度

    • 快速加热和制冷系统

    • 手动管式炉滑动系统，滑动距离300mm

    • 设备尺寸：W1400×H1000×D500mm