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碳纳米管CVD制备系统
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碳纳米管CVD制备系统

产品品牌 其他品牌
产地类别 进口
厂商性质 代理商
产品详情
彩页介绍

该设备用于制备纳米碳材料,如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备;采用封闭式管式炉,石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等;


MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积系统,具备一个水平石英管式炉,该系统可以生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。良好的工艺保证了制备质量和数量,也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统,气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。

真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行,从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统,例如:真空炉、大气炉、氮化炉。


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技术特点
      • 良好的工艺和丰富的经验
      • 乙醇和碳氢化合物作为碳源
      • 用于SWCNT 合成
      • 具备催化剂前体供应功能
      • 可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT
      • 具备三通道气体质量控制器
      • 体积小,基座稳定
      • 操作温度:可达1200度


技术参数
      • 基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;
      • 粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等。





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