该设备用于制备纳米碳材料,如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备;采用封闭式管式炉,石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等;
MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积系统,具备一个水平石英管式炉,该系统可以生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。良好的工艺保证了制备质量和数量,也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统,气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。
真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行,从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统,例如:真空炉、大气炉、氮化炉。
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• 纳米颗粒制备系统;
• ZnO纳米带制备系统;
• 碳纳米管制备系统:用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等;
• 碳纳米管生产系统CVD:用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;
• 催化剂薄膜制备系统:可沉积催化剂薄膜在各种材料上,用于高性能碳纳米管的指标;
技术特点
• 良好的工艺和丰富的经验
• 乙醇和碳氢化合物作为碳源
• 用于SWCNT 合成
• 具备催化剂前体供应功能
• 可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT
• 具备三通道气体质量控制器
• 体积小,基座稳定
• 操作温度:可达1200度
技术参数
• 基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;
• 粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等。