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kSA SpectR 光谱反射率测量设备
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kSA SpectR 光谱反射率测量设备

产品品牌 k-Space
产品详情
彩页介绍

kSA SpectR是一种用于测量光谱反射率,L*a*b*成色值和生长速率的非接触式测量设备。该工具具有多种在线监控和过程控制的应用功能,包括垂直腔表面发射激光器件(VCSEL),分布式布拉格反射器件(DBR)和其他一些复杂的半导体器件结构。该设备主要应用于监控测量sputtering,MBE和MOCVD等薄膜生产研究。

kSA_SpectR_4-2.jpg


kSA SpectR的光学镜组被配置为镜面反射的几何形状。在这种测量原理中,薄膜每生长出一个新layer,程序就会自动拟合,将已有的所有基底和薄膜layer视为一个新的虚拟基底。


kSA SpectR可以同时以多个波长进行测量,每个波长都具有潜在的特性。此工具可在客户选定的波长范围内测量自定义光谱特征,如反射率的Min值、Max值、拐点或基线散射水平。


k-Space公司的 CEO Darryl Barlett表示:"与我们的许多设备一样,此设备是由特定客户直接定制所研发出来的。当客户来找我们时,我们听取了他们的详细测量要求,然后设计了一个系统,结合了Sandia国家实验室的新技术,根据客户的应用场景研制了该设备。"随着薄膜层的复杂性的提高,为了提高产品的产量和性能,各种材料参数的测量越发重要。该系统有能力在复杂的薄膜结构上进行测量,包括在DBR生长过程中确定Fabry-Perot dip等多种参数。


测量实例


850 nm DBR的光谱反射率

850 nm DBR的光谱反射率


在GaAs衬底上生长250nm的AlAs和500nm的GaAs时,532和940nm下的反射率及其拟合曲线

在GaAs衬底上生长250nm的AlAs和500nm的GaAs时,532和940nm下的反射率及其拟合曲线


AlAs生长期间的生长速率,光学常数和反射率实时拟合曲线


AlAs生长期间的生长速率,光学常数和反射率实时拟合曲线

AlAs生长期间的生长速率,光学常数和反射率实时拟合曲线


AlAs和GaAs生长的未经校正的高温计测量结果和经过校正的ECP温度

AlAs和GaAs生长的未经校正的高温计测量结果和经过校正的ECP温度


GaAs薄膜生长过程中单个反射率振荡周期图


GaAs薄膜生长过程中单个反射率振荡周期图


kSA-SpectR-Product-Specs.pdf


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